氣相沉積爐

CVD氣相沉積爐的介紹：

CVD氣相沉積爐是Chemical Vapor Deposition的簡稱，是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。

氣相沉積爐用途：

氣相沉積爐在抽真空后氫氣保護的情況下，利用中頻感應加熱原理，使位于盤管內的鎢坩堝達到高溫，通過熱輻射傳導到工作中，適用于科研、軍工部門對鎢、鉬及其合金粉末進行成型燒結。安裝氣相沉積爐的場地應符合真空衛生要求，周圍空氣清潔干燥，通風條件好，工作場所不易揚起灰塵等。

CVD氣相沉積的功能特點：

1、采用純微波加熱、傳統電加熱或混合加熱方式，可加熱包括金屬在內的非易燃易爆材料；

2、升溫速率快，智能控溫，可分段設置，控溫穩定度好，熱慣性小。同時加熱多個溫區，且加熱區長度可調；

3、可通各種氣氛，抽真空有機械泵、擴散泵和分子泵，可達真空狀態；

4、爐體采用不銹鋼密封法蘭（鉸鏈結構）；

5、保護管采用合金管，氣管采用卡套或VCR接口，安裝方便；

6、爐體配有自動冷卻風扇，降低溫度；

7、真空系統：機械泵擴散泵和分子泵，真空密度計；

8、可通過電腦全程監控和調試。

產品展示：